全球-PHI GENESIS在近期已到達(dá)束蘊(yùn)儀器（上海）有限公司的倫琴實(shí)驗(yàn)室并完成安裝調(diào)試。倫琴實(shí)驗(yàn)室是國(guó)內(nèi)專(zhuān)業(yè)從事X射線(xiàn)相關(guān)分析與開(kāi)發(fā)的機(jī)構(gòu)，提供多方位的X射線(xiàn)測(cè)試服務(wù)，以廠家應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)配置了新型設(shè)備。針對(duì)復(fù)雜材料和器件完成從晶體結(jié)構(gòu)到電子結(jié)構(gòu)的完善解析，以及從埃米到毫米的跨尺度表征。束蘊(yùn)儀器的測(cè)試團(tuán)隊(duì)由應(yīng)用專(zhuān)家領(lǐng)導(dǎo)，同時(shí)與Bruker，ULVAC-PHI等儀器制造商為深度合作伙伴。

ULVAC-PHI于2022年7月推出了具備有多功能平臺(tái)的X射線(xiàn)光電子能譜儀（XPS）- PHI GENESIS。該儀器集成了PHI歷代XPS儀器重要的“GENE"所研發(fā)出的新型產(chǎn)品，具有50年技術(shù)傳承的高度自動(dòng)化和減少分析時(shí)間的傳統(tǒng)，具有可擴(kuò)展性，并在緊湊型外殼中提供壓倒性的性能。

PHI GENESIS可以應(yīng)對(duì)從大面積到微區(qū)的分析需求，既可以表征表面成分，表面多層薄膜等，又可以對(duì)環(huán)境顆粒物、表面缺陷進(jìn)行微區(qū)定位分析。這使得PHI GENESIS對(duì)于各種材料開(kāi)發(fā)，材料剖析與失效機(jī)理的分析和研究具有不可替代的作用。

PHI GENESIS的功能十分強(qiáng)大，包括雙束中和且條件自動(dòng)匹配、提供表面的元素成分、元素化學(xué)態(tài)信息、全譜圖掃描定性分析各種樣品表面元素組成 （Li~U）、窄譜（精細(xì)譜）掃描表征各種元素存在的化學(xué)態(tài)、半定量給出各個(gè)成分及化學(xué)態(tài)的百分比、線(xiàn)或面分析 (Line Scan & Mapping) 表征成分的水平分布、深度分析(Depth Profiling)表征成分的深度分布。

此外，PHI GENESIS由ULVAC-PHI公司獨(dú)力研發(fā)，該公司是超高真空表面分析儀器供應(yīng)商。作為提供多方位（面）的高性能XPS、AES和SIMS表面分析儀器的一家供應(yīng)商，向普遍高科技領(lǐng)域上的廣大客戶(hù)（包括納米技術(shù)、微電子技術(shù)、存儲(chǔ)介質(zhì)、催化、生物材料、藥品、基本材料如金屬、礦物、聚合物、復(fù)合材料和涂料）提供完整的表面分析解決方案上，ULVAC-PHI多年來(lái)在表面分析領(lǐng)域中具有極其應(yīng)有的地位。

PHI CHINA總經(jīng)理葉上遠(yuǎn)先生對(duì)于PHI GENESIS在束蘊(yùn)儀器（上海）有限公司的倫琴實(shí)驗(yàn)室順利完成安裝調(diào)試表示祝賀。也表示ULVAC-PHI和PHI CHINA將對(duì)該設(shè)備（PHI GENESIS 500）提供持續(xù)性技術(shù)支持，希望雙方未來(lái)繼續(xù)深度合作，呈現(xiàn)華東地區(qū)一個(gè)新的面向全國(guó)用戶(hù)的展示窗口。

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